美國為了打壓華為等中企，可謂是無所不用其極，不僅實施芯片禁令，切斷華為的芯片代工渠道，而且還出臺“管制規(guī)則”，禁止ASML等海外設備巨頭向我國市場出口造芯必須用到的核心設備。
作為全球唯一能制造EUV設備的廠家，ASML對待中國市場的態(tài)度從我們決定自主研發(fā)時，就發(fā)生了改變，或許是擔憂未來可能被我國市場排除之外，于是再也不嘲諷我們“給圖紙也造不出”，反而是先后多次示好、以求合作。
盡管ASML在這兩年出口給了我們大約57臺光刻機，且與中芯國際達成了12億美元的光刻協(xié)議，然而這其中卻并沒有哪怕一臺EUV光刻機。另外，中芯國際早在三年前預定且交過定金的那臺EUV也未到貨。
對中芯國際來說，全球缺芯的環(huán)境，是它在代工領域崛起的大好時機，自然不愿意因為設備問題而錯失良機，為此專門邀請來了技術大拿蔣尚義，尋求與ASML達成EUV的進口協(xié)議。要知道蔣尚義在臺積電的時候，主要負責的就是EUV業(yè)務。
然而，ASML所做出的一項決定，基本意味著EUV的結局已經蓋棺定論了。
ASML決定將于今年年底進駐美國半導體市場，搬進老美提前為其準備好的位于東南部鳳凰城的錢德勒辦公大樓。
在美國的制約下，ASML本就產能不高的EUV設備，將會優(yōu)先供應給英特爾等美企，然后才是臺積電和三星。而中芯國際作為國內最先進的芯片代工企業(yè)，美國此時對它的態(tài)度可想而知。
因此，不管是從ASML的產能來看，或是從目前中美科技競爭的現(xiàn)狀來看，隨著ASML赴美之后，中芯國際幾乎都沒有再進口到EUV設備的任何可能。
不過，雖然沒辦法進口到EUV光刻機，但中芯國際方面還是傳出了有關7nm芯片的喜訊。
或許很多人都認為EUV光刻機是7nm高端芯片不可或缺的制造設備，但事實并非如此，采用DUV光刻，在技術方面進行升級的情況下，同樣可以造出與7nm性能無限接近的芯片。
而中芯國際方面也證實了這一消息，表示采用FinFET N+1技術制造的7nm晶圓，現(xiàn)已處加速量產階段，月產能可達1.5萬片。
同時，負責中芯國際高端芯片制造的梁孟松，也在時隔九個月之后，再次發(fā)聲，正面回應了網友們提出的有關國產芯片的問題。
梁孟松表示：7nm芯片的研發(fā)任務已經完成，5nm最艱難的多項工作也已展開，但由于缺少EUV設備，以至于在7nm節(jié)點之后，暫時無法再進一步。
另外，梁孟松還強調：非常清楚大家一直期望著中芯能早日突破5nm制程，但是集成電路行業(yè)沒有彎道超車，只有踏實前行。這三年時間里，中芯從90nm制程迭代到7nm，已經是在超速發(fā)展了，接來下會以鞏固這些節(jié)點的技術、產能為主。
這或許就是中芯國際在今年兩度擴大28nm產能的主要原因，相比臺積電的5nm、3nm，或許我們還有不小的差距，但結合目前外界的封鎖情況，中芯絕對沒有“開倒車”，也并非是不思進取，而是在等待機會。
這個機會本來包含EUV設備的進口，但如今只能寄希望于中科院等科研機構對于EUV的自研，令人振奮的是中科院沒有讓我們失望，現(xiàn)階段已突破了EUV三大核心技術，距離制造出完整的EUV并不會太遠，屆時，國產芯片將順利邁入高端市場。
