在許多工業(yè)設計之中，最困難的是制造手機芯片。近年來，由于芯片問題，我國科技企業(yè)頻頻遭遇“瓶頸”。許多中國人對此感到擔憂。國內(nèi)不少廠商也開始加快布局芯片的自主研發(fā)。雖然自主研發(fā)的國產(chǎn)芯片已進入快車道，但由于我國長期沒有先進的光刻設備，與國際頂尖巨頭仍有較大差距。
眾所周知，芯片設計的研究與開發(fā)離不開光刻機，特別是具有先進工藝技術的芯片。但ASML是全球先進平版印刷市場之上的巨頭。此前，中芯國際還花了很多錢購買了一臺先進的平版印刷機。但由于美國的原因，ASML光刻機無法順利進入中國，這也給我國7Nm及更先進的工藝技術芯片的發(fā)展帶來了更嚴峻的挑戰(zhàn)。要知道，我國目前的量產(chǎn)光刻機還處于90nm的階段，比ASML光刻機落后了十多年?？梢姴罹嘀?，也說明我國加強光刻機建設刻不容緩。
雖然之中芯國際已經(jīng)表示可以不用光刻機開發(fā)7Nm工藝，但5nm甚至更先進的工藝芯片產(chǎn)品絕對離不開光刻機。如果沒有光刻機，就意味著中國在未來的芯片競爭中將落后于對手，未來很可能被對手欺負。
然而，最近傳來的好消息是，光刻機的問題可以得到有效的解決。據(jù)悉，上海微電子有限公司在紫外光源的幫助之下，成功實現(xiàn)了22nm的突破，推動了國產(chǎn)光刻機的發(fā)展，向前邁進了一大步。一旦技術成熟，意味著22nm光刻機將在中國問世，這將推動國產(chǎn)芯片的進一步發(fā)展，同時也給其他平版印刷廠家?guī)砹诵判?，這將有助于推動更多的廠家共同打造國產(chǎn)光刻機，提高中國在國際市場之上的競爭力。
雖然我國在光刻領域取得了新的進展，但國內(nèi)光刻生產(chǎn)所需的零部件仍需從國外市場進口。顯然，在平版印刷的生產(chǎn)過程之中，中國仍然嚴重依賴外國。然而，無論多么困難，中國企業(yè)都不能放棄。光刻機的自主研發(fā)是一個漫長的過程。未來，我們需要不斷努力，掌握自己手中的核心技術和供應鏈。希望今后國產(chǎn)光刻機能在國際市場之上取得更好的成績，使國產(chǎn)芯片能夠立足于全球市場。
